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南 京 信 息 职 业 技 术 学 院 试 卷
2009/ 2010学年第_一_学期期{末}考试卷A . 题 答 :号学 止 禁 :名姓内 线 :级封班密
课程名称: 集成电路原理 考试时间:100分钟 命题人 董西英 2009 年 12月 26 日
审批人 年 月 日 使用班级: 30831P 808212P 考试成绩: 。
题号 一 二 三 四 五 六 总分 阅卷人 得分 一.
填空(每空一分,共20分)
1、 集成度提高的三个主要技术因素是( ),
( )及芯片集成效率结构和工艺设计改进提高。 2、 双极型半导体IC以( )作为有源器件,MOS
型IC以MOS场效应晶件管作为有源器件。把双极和CMOS相容工艺称为( )工艺。
3、 互补MOS逻辑集成电路由下拉网络和上拉网络组成,其中上拉网络为
( )器件,下拉网络为( )器件。
4、 衡量一个TTL电路静态特性好坏的参数主要有噪声容限、负载能力、
( )。
5、 增强型PMOSFET满足( ), 则该管饱
和;增强型NMOSFET管满足( ), 则该管工作在可变电阻区,沟道两头都是( )的,其沟道电阻
与其宽长比成( )比。
6、 N沟器件的好处是电子表面迁移率比空穴表面迁移率( ),所
以NMOS电路的工作速度比PMOS电路( )
7、 带缓冲级的CMOS门电路,输出驱动能力仅由该输出端的
( )决定,与各输入端所处的( )。
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8、 差模放大器放大有用的( )信号,对各种共模信号具有良好
的共模抑制作用。β、VBE、ICEO随温度的变化会造成零点漂移及噪声,这些变化均是( )信号。差模放大器输入失调电压的温漂与输入失调电压本身成( )比
9、 模拟IC对元件参数的精度和( )要求较高,因此在版图和工艺设计中
需重视对元件的( )设计
二 问答题 (50分)
1、图1为双极逻辑集成电路中NPN晶体管结构图,
(1)画出其中的寄生晶体管位置、寄生晶体管和NPN晶体管的电连接电路图。(4分),
(2)当NPN管工作于饱和区时寄生晶体管工作在什么区?简述理由。对集成电路有影响吗? (6分)
(3)工艺上如何减小有源寄生效应(4分)。 ( 共14分)
图1
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题
2、(1)画出标准TTL与非门逻辑电路图(3分)。
(2)简述当输入为高电平时的工作原理(要说明各个管子的工作状态并
答标出每个基极和集电极的电位)(6分)。
(3)STTL与非门电路比6管单元TTL与非门电路作了那些改进(2分)?
止提高了电路的什么性能(2分)? (共13 分)
禁内线封密
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3、 (1)画出互补CMOS反相器电路图(2分)
(2)简述其工作原理(6分)。
(3)要使反相器噪容最大、输出波形对称需满足什么条件?设计最小特征尺寸为0.5微米,μn/μP=2时器件尺寸(4分) (共 12 分)
4、如何提高差分放大器的共模抑制比? (6分)
5、模拟IC中对扩散电阻器的要求是什么?(3分)
6、说出差分放大器输入失调电流的定义。(2分)
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