华中科技大学光电子企业加速器项目建设可行性研究分析报告 - 图文

科技大学光电子企业加速器项目建设

项目可研报告可行性研究报告项目建议书XX工程咨询

可行性研究报告

二〇一三年二月

目 录

第一章 总 论 …………………………………………………1 一、项目概况 ……………………………………………………1 二、可行性报告编制范围 …… ………………………………2 三、主要经济技术指标情况 ……………………………………3 四、结论与建议 …………………………………………………3 第二章 项目建设背景和必要性 ………………………………4 一、项目建设背景和必要性 ……………………………………4 第三章 市场分析及预测 ………………………………………6 一、市场分析及预测 ……………………………………………6 二、项目实施方案 ………………………………………………7 第四章 建设目标及内容 ………………………………………8 一、主要产品简介 ………………………………………………8 二、生产工艺 ……………………………………………………8 三、设备选购清单 ………………………………………………9 四、建设目标及内容……………………………………………10 五、组织保障……………………………………………………10 第五章 建设的配套条件………………………………………12 一、主要原材料…………………………………………………12 二、项目选址现状………………………………………………12 三、厂区建设条件………………………………………………12 第六章 项目进度安排…………………………………………17

第七章 投资估算及资金筹措…………………………………18 一、投资概算……………………………………………………18 二、资金筹措……………………………………………………18 第八章 有关事项………………………………………………19 一、劳动保护……………………………………………………19 二、安全卫生……………………………………………………20 三、防火…………………………………………………………20 四、节能、节水…………………………………………………21 五、环境保护……………………………………………………21 第九章 经营组织安排…………………………………………24 第十章 项目效益分析…………………………………………25 一、经济效益……………………………………………………25 二、社会效益……………………………………………………25 三、生态效益……………………………………………………25 第十一章 结论…………………………………………………26 附图

一、项目可研概要

（一）项目概况

项目名称：华中科技大学光电子企业加速器 建设地址：武汉未来科技城（湖北省大学科技园） 建设期限：3年

承担单位：武汉华工大学科技园发展有限公司

建设规模：项目规划用地面积103亩（含代征），一期建设用地50亩，二期预留用地53亩。总建筑面积约为11.8万平方米，其中一期、二期各建设6万平方米以及其他配套设施等。 （二）项目地块概况

华中科技大学光电子企业加速器项目规划用地位于武汉未来科技城高新大道以北、未来一路以东、科技二路以北约103亩用地（含代征）。 （三）项目主要结论

1、项目各项技术指标均符合规划要求。

2、项目工程技术方案按照各项规范和标准严格执行，能保证工程技术的顺利实施。

3、项目施工及运营过程中，会产生轻微废气、废水、噪声及固体废弃物等，从污染物性质和污染物总量分析，均属轻微的污染源，符合国家环保法规要求和污染物排放标准，符合项目所在地环境质量要求。

4、项目税前静态回收期约为10.22年，项目在兼顾投资回报的基础上也满足了高科技企业孵化和加速服务等社会需求。