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等离子体增强化学气相沉积法
1 等离子体的基本概念和性质
近代科学研究的结果表明,物质除了具有固态、液态和气态的这三种早为人们熟悉的形态之外,在一定的条件下,还可能具有更高能量的第四种形态——等离子体状态。例如通过加热、放电等手段,使气体分子离解和电离,当电离产生的带电粒子密度达到一定的数值时,物质的状态将发生新的变化,这时的电离气体已经不再是原来的普通气体了。由于这种电离气体不管是部分电离还是完全电离,其中的正电荷总数始终和负电荷总数在数值上是相等的,于是人们将这种由电子、离子、原子、分子或者自由基团等粒子组成的电离气体称之为等离子体。
不管在组成上还是在性质上,等离子体不同于普通的气体。普通气体由电中性的分子或原子组成,而等离子体则是带电粒子和中性粒子的集合体。等离子体和普通气体在性质上更是存在本质的区别,首先,等离子体是一种导电流体,但是又能在与气体体积相比拟的宏观尺度内维持电中性;其次,气体分子间不存在净电磁力,而等离子体中的带电粒子之间存在库仑力;再者,作为一个带电粒子体系,等离子体的运动行为会受到电磁场的影响和支配。因此,等离子体是完全不同于普通气体的一种新的物质聚集态。
应当指出,并非任何的电离气体都是等离子体。众所周知,只要绝对温度不为零,任何气体中总存在有少量的分子和原子电离。严格地说来,只有当带电粒子地密度足够大,能够达到其建立的空间电荷足以限制其自身运动时,带电粒子才会对体系性质产生显著的影响,换言之,这样密度的电离气体才能够转变成等离子体。除此之外,等离子体的存在还有其特征的空间和时间限度,如果电离气体的空间尺度L 不满足等离子体存在的空间条件L>>?D(德拜长度?D 为等离子体宏观空间尺度的下限)的空间限制条件,或者电离气体的存在的时间不满足?>>?p(等离子体的振荡周期?p 为等离子体存在的时间尺度的下限)时间限制条件,这样的电离气体都不能算作等离子体。 2 等离子体的产生方法和原理
获得等离子体的方法和途径多种多样,其中宇宙星球、星际空间以及地球高空的电离层等属于自然界产生的等离子体另当别论。这里只讨论人为产生等离子体的主要方法和原理。一般说来,电离的方法有如下几种:
1)光、X 射线、?射线照射:通过光、X 射线、?射线的照射提供气体电离所需要的能量,由于其放电的起始电荷是电离生成的离子,所形成的电荷密度通常极低。
2)辉光放电:通过从直流到微波的所有频率带的电源激励产生各种不同的电离状态。
3)燃烧:通过燃烧,火焰中的高能粒子相互之间发生碰撞,从而导致气体发生电离,这种电离通常称之为热电离。另外,特定的热化学反应所放出的能量也能够引起电离。
4)冲击波:气体急剧压缩时形成的高温气体,发生热电离形成等离子体。 5)激光照射:大功率的激光照射能够使物质蒸发电离。
6)碱金属蒸气与高温金属板的接触:由于碱金属蒸气的电离能小,当碱金属蒸气接触到比电离能大的功函数的金属时,电离容易发生,因此碱金属蒸气与高温金属板的接触能够生成等离子体。
在上述的等离子体的产生方法中,辉光放电法所产生的低温等离子体在薄膜材料的制备技术中得到了非常广泛的应用。 3 等离子体增强化学气相沉积技术
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。由于PECVD 技术是通过反应气体放电来制备薄膜的,有效地利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式。
一般说来,采用PECVD 技术制备薄膜材料时,薄膜的生长主要包含以下三个基本过程:首先,在非平衡等离子体中,电子与反应气体发生初级反应,使得反应气体发生分解,形成离子和活性基团的混合物;其二,各种活性基团向薄膜生长表面和管壁扩散输运,同时发生各反应物之间的次级反应;最后,到达生长表面的各种初级反应和次级反应产物被吸附并与表面发生反应,同时伴随有气相分子物的再放出。
具体说来,基于辉光放电方法的PECVD 技术,能够使得反应气体在外界电磁场的激励下实现电离形成等离子体。在辉光放电的等离子体中,电子经外电场加速后,其动能通常可达10eV 左右,甚至更高,足以破坏反应气体分子的化学
键,因此,通过高能电子和反应气体分子的非弹性碰撞,就会使气体分子电离(离化)或者使其分解,产生中性原子和分子生成物。正离子受到离子层加速电场的加速与上电极碰撞,放置衬底的下电极附近也存在有一较小的离子层电场,所以衬底也受到某种程度的离子轰击。因而分解产生的中性物依靠扩散到达管壁和衬底。这些粒子和基团(这里把化学上是活性的中性原子和分子物都称之为基团)在漂移和扩散的过程中,由于平均自由程很短,所以都会发生离子-分子反应和基团-分子反应等过程。到达衬底并被吸附的化学活性物(主要是基团)的化学性质都很活泼,由它们之间的相互反应从而形成薄膜。
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