当前位置:首页 > 半导体物理综合练习题(2) - 图文
(c) 面心立方 (d) 金刚石结构 答:
9、 求图中所示平面的密勒指数
(a)123 (b)(123) (c)(321) (d)(321) (e)(632) 答:
??
10、在特殊半导体导带底之上电子状态所占的几率是e?10。求在已知材料内费米能级的位置。 (a)EF?Ec (b)Ec?EF?9kT
(c)Ec?EF?10kT (d)EF?Ec?kT 答:
11、在室温下,低掺杂硅的载流子散射机制主要是: (a)载流子-载流子散射 (b)晶格散射 (c)电离杂质散射 (d)压电散射 答: b
12、使用价键模型,描述(画出)施主的图像。 答:
13、使用能带图,描述(画出)T?0K时,位于施主上电子冻结的图像。 答:
14、说明为什么n型材料的电阻率比同样掺杂的p型材料电阻率要小很多。 答:
15、使用能带图,描述(画出)通过R?G中心复合的图像。 答:
16、如果MOSFET中内部状态如下图所示,在右图所示的ID?VD特性曲线上确定相应的工作点。
答:
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