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第08章-离子注入工艺 - 图文

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  • 2025/5/4 2:12:23

电荷中性化系统

?晶圆电荷效应

–离子注入将正电荷带入晶圆表面–带正电荷的晶圆表面排斥正离子–引起射线放大和不均匀离子注入–导致整个晶圆掺杂物分布不均匀

?电荷中性化系统

–等离子体注入系统–电子枪–电子淋浴器

晶圆电荷效应形成的非均匀离子注入

45

等离子体注入系统

等离子体注入系统

46

电子枪系统

电子枪系统

47

晶圆处理器

?晶圆处理器的作用

–在整个晶圆表面形成均匀的离子注入

–通过移动离子束或晶圆,使离子束均匀扫描整个晶圆

?晶圆处理器的种类

–旋转轮式晶圆处理系统–旋转盘式晶圆处理系统–单晶圆扫描离子束系统–单晶圆扩展离子束系统

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电荷中性化系统?晶圆电荷效应–离子注入将正电荷带入晶圆表面–带正电荷的晶圆表面排斥正离子–引起射线放大和不均匀离子注入–导致整个晶圆掺杂物分布不均匀?电荷中性化系统–等离子体注入系统–电子枪–电子淋浴器晶圆电荷效应形成的非均匀离子注入45等离子体注入系统等离子体注入系统46电子枪系统电子枪系统47晶圆处理器?晶圆处理器的作用–在整个晶圆表面形成均匀的离子注入–通过移动离子束或晶圆,使离子束均匀扫描整个晶圆?晶圆处理器的种类–旋转轮式晶圆处理系统–旋转盘式晶圆处理系统–单晶圆扫描离子束系统–单晶圆扩展离子束系统48<

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