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2018年高考化学一轮复习 周末培优 新人教版 - 图文

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  • 2026/1/8 12:30:27

周末培优

高考频度:★★★★★ 难易程度:★★★☆☆

典例在线

高聚物H可用于光刻工艺中,作抗腐蚀涂层。下列是高聚物H的一种合成路线:

已知:①RCHO+R1CH2COOH

②由B生成C的反应属于加聚反应; ③D属于高分子化合物。 请回答下列问题:

+H2O;

(1)X生成Y的条件是 ;E的分子式为 。

(2)芳香烃I与A的实验式相同,经测定I的核磁共振氢谱有5组峰且峰面积之比为1∶1∶2∶2∶2,则I的结构简式为 。推测I可能发生的反应类型是 (写出1种即可)。 (3)由E生成F的化学方程式为 。 (4)D和G反应生成H的化学方程式为 。

(5)G的同分异构体中,与G具有相同官能团的芳香族化合物还有 种(不考虑立体异构)。 (6)参照上述合成路线,以对二甲苯和乙酸为原料(无机试剂任选),设计制备

的合成路线。

【参考答案】(1)光照 C7H8O (2)(3)2

加成反应(或氧化反应、加聚反应、取代反应中的任意1种) +O2

2

+2H2O

(4)n(5)4

++nH2O

(6)

苯甲醇,在O2/Cu、加热条件下,发生催化氧化反应生成苯甲醛和水。(4)D为聚乙烯醇,G为

,D与G发生缩聚反应生成聚酯H。(5)G中含碳碳双键、羧基,与G具有相同

官能团的芳香族化合物有4种,结构简式如下:、、

、。(6)先由对二甲苯制备对二苯甲醛,再利用已知信息①,对

二苯甲醛与乙酸在一定条件下发生反应可生成目标产物。因此,设计合成路线如下:

1.有机合成题的解题思路

2.逆推法分析合成路线

2

(1)基本思路 逆推法示意图:

在逆推过程中,需要逆向寻找能顺利合成目标分子的中间有机化合物,直至选出合适的起始原料。当得到几条不同的合成路线时,就需要通过优选确定最佳合成路线。

(2)一般程序

(3)应用举例

利用“逆推法”分析由乙烯合成草酸二乙酯的过程 (ⅰ)思维过程

3

1.屈昔多巴()是一种抗帕金森氏病药物。如图是屈昔多巴的一种合成路线

(简写为BnCl,简写为CbzCl):

回答下列问题:

(1)①的反应类型为 ,反应①的作用为 。

(2)F(屈昔多巴)中的官能团名称为 ,屈昔多巴分子中有 个手性碳原子。 (3)②为加成反应,写出X与NaOH反应的化学方程式: 。 (4)④中的反应物

显 性(填“酸”、“中”或“碱”),写出其与盐酸反应

的化学方程式: 。 (5)

的同分异构体中,能与NaHCO3溶液反应生成CO2的二取代芳香化合物有 种,其

中核磁共振氢谱为四组峰的结构简式为 。

(6)参照上述合成路线,以对羟基苯甲醛为原料(无机试剂任选),设计制备对羟基苯甲酸的合成路线: 。

答案

1.【答案】(1)取代反应 保护羟基 (2)羟基、氨基、羧基 2 (3)H2NCH2COOH+NaOH

H2NCH2COONa+H2O

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周末培优 高考频度:★★★★★ 难易程度:★★★☆☆ 典例在线 高聚物H可用于光刻工艺中,作抗腐蚀涂层。下列是高聚物H的一种合成路线: 已知:①RCHO+R1CH2COOH②由B生成C的反应属于加聚反应; ③D属于高分子化合物。 请回答下列问题: +H2O; (1)X生成Y的条件是 ;E的分子式为 。 (2)芳香烃I与A的实验式相同,经测定I的核磁共振氢谱有5组峰且峰面积之比为1∶1∶2∶2∶2,则I的结构简式为 。推测I可能发生的反应类型是 (写出1种即可)。 (3)由E生成F的化学方程式为 。 (4)D和G反应生成H的化学方程式为 。

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