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周末培优
高考频度:★★★★★ 难易程度:★★★☆☆
典例在线
高聚物H可用于光刻工艺中,作抗腐蚀涂层。下列是高聚物H的一种合成路线:
已知:①RCHO+R1CH2COOH
②由B生成C的反应属于加聚反应; ③D属于高分子化合物。 请回答下列问题:
+H2O;
(1)X生成Y的条件是 ;E的分子式为 。
(2)芳香烃I与A的实验式相同,经测定I的核磁共振氢谱有5组峰且峰面积之比为1∶1∶2∶2∶2,则I的结构简式为 。推测I可能发生的反应类型是 (写出1种即可)。 (3)由E生成F的化学方程式为 。 (4)D和G反应生成H的化学方程式为 。
(5)G的同分异构体中,与G具有相同官能团的芳香族化合物还有 种(不考虑立体异构)。 (6)参照上述合成路线,以对二甲苯和乙酸为原料(无机试剂任选),设计制备
的合成路线。
【参考答案】(1)光照 C7H8O (2)(3)2
加成反应(或氧化反应、加聚反应、取代反应中的任意1种) +O2
2
+2H2O
(4)n(5)4
++nH2O
(6)
苯甲醇,在O2/Cu、加热条件下,发生催化氧化反应生成苯甲醛和水。(4)D为聚乙烯醇,G为
,D与G发生缩聚反应生成聚酯H。(5)G中含碳碳双键、羧基,与G具有相同
官能团的芳香族化合物有4种,结构简式如下:、、
、。(6)先由对二甲苯制备对二苯甲醛,再利用已知信息①,对
二苯甲醛与乙酸在一定条件下发生反应可生成目标产物。因此,设计合成路线如下:
。
1.有机合成题的解题思路
2.逆推法分析合成路线
2
(1)基本思路 逆推法示意图:
在逆推过程中,需要逆向寻找能顺利合成目标分子的中间有机化合物,直至选出合适的起始原料。当得到几条不同的合成路线时,就需要通过优选确定最佳合成路线。
(2)一般程序
(3)应用举例
利用“逆推法”分析由乙烯合成草酸二乙酯的过程 (ⅰ)思维过程
3
1.屈昔多巴()是一种抗帕金森氏病药物。如图是屈昔多巴的一种合成路线
(简写为BnCl,简写为CbzCl):
回答下列问题:
(1)①的反应类型为 ,反应①的作用为 。
(2)F(屈昔多巴)中的官能团名称为 ,屈昔多巴分子中有 个手性碳原子。 (3)②为加成反应,写出X与NaOH反应的化学方程式: 。 (4)④中的反应物
显 性(填“酸”、“中”或“碱”),写出其与盐酸反应
的化学方程式: 。 (5)
的同分异构体中,能与NaHCO3溶液反应生成CO2的二取代芳香化合物有 种,其
中核磁共振氢谱为四组峰的结构简式为 。
(6)参照上述合成路线,以对羟基苯甲醛为原料(无机试剂任选),设计制备对羟基苯甲酸的合成路线: 。
答案
1.【答案】(1)取代反应 保护羟基 (2)羟基、氨基、羧基 2 (3)H2NCH2COOH+NaOH
H2NCH2COONa+H2O
4
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