硅片清洗水处理方案 - 图文

三达水处理设备

硅片清洗水处理方案

硅片清洗水处理方案

一、应用范围概述：

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗电子管生产 电子管阴极涂敷碳酸盐配液 显像管和阴极射线管生产配料用纯水 黑白显像管荧光屏生产 玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水 液晶显示器的生产 屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制 集成电路生产中高纯水清洗硅片。 二、典型工艺流程

预处理系统－反渗透系统－中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）(传统工艺)

预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）(最新工艺)

预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥17MΩ.CM） (最新工艺)

地址：北京市大兴区前辛庄森淼园 三达厂区 邮编：100070

电话：010-51263280 传真：010-83688022-801 邮箱：lanyg@sinmem.com

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三达水处理设备

预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）(最新工艺)

处理系统－反渗透系统－中间水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线杀菌器－精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺) 三、达到标准

纯化水标准，注射水标准 显像管、液晶显示器用纯水水质（经验数据） 集成电路用纯水水质 国家电子级纯水标准 美国SEMI标准 四、设备特点

为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。 我公司产品

●制取电子工业生产如单晶硅、半导体、集成电路块、IC芯片封装、显象管、玻壳、液晶显示器、光学、光电、热电厂、冶金、化工、轻工、汽车制造、制药、医疗卫生等制造工业用纯水。 ●单晶硅、半导体、集成电路块、IC芯片封装行业纯水设备、太阳能硅片清洗水设备 ●医药行业用水：制药、制剂工艺用水，医疗血液透析、生化分析、输液等。 ●制取热力、火力发电锅炉，厂矿企业中、低压锅炉给水所需软化水、除盐纯水。

●制取饮料行业的饮用纯净水、蒸馏水、天然水、矿泉水、矿化水、酒类生产白酒勾兑用纯水、啤酒糖化投料用水及纯生啤酒过滤等。

●宾馆、楼宇、社区优质供水网络系统及游泳池水质净化。

●制取电镀工艺用去离子水、电池（蓄电池、锂电池）生产工艺的纯水，汽车、家用电器、建材产品表面涂装、清洗 纯水，镀膜玻璃用纯水，纺织印染工艺所需的除硬盐水。

●石油化工如化工反应冷却、化学药剂、化肥及精细化工、化妆品制造过程用工艺纯水。

●去离子水、CEDI水、超纯水、软化水、废水（污水）中水回用、电子工业用超纯水、单/多晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线框架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光驼信、

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电脑元件、电容元器件等生产工业用纯水。

●PCB超纯水半导体LED超纯水处理设备太阳能硅片纯水处理

纯化水、注射用水光学玻璃超纯水清洗，LCD清洗工业用水 光学镀膜水处理

硅片清洗 - 硅片清洗 这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。

物理清洗 物理清洗有三种方法。①刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。②高压清洗：是用液体喷射片子表面，喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用，片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用，靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。③超声波清洗：超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率提高到超高频频段，清洗效果更好。

化学清洗 化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染,方法较多,有溶剂萃取、酸洗（硫酸、硝酸、王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中双氧水体系清洗方法效果好，环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性,将有机物分解而除去；用超纯水冲洗后,再用成分比为H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的碱性清洗液清洗,由于H2O2的氧化作用和NH4OH的络合作用，许多金属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水；然后使用成分比为H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，由于H2O2的氧化作用和盐酸的溶解，以及氯离子的络合性，许多金属生成溶于水的络离子，从而达到清洗的目的。 放射示踪原子分析和质谱分析表明，采用双氧水体系清洗硅片效果最好，同时所用的全部化学试剂 H2O2、NH4OH、HCl能够完全挥发掉。用H2SO4和H2O2清洗硅片时，在硅片表面会留下约2×1010原子每平方厘米的硫原子，用后一种酸性清洗液时可以完全被清除。用H2O2体系清洗硅片无残留物，有害性小，也有利于工人健康和环境保护。硅片清洗中用各步清洗液处理后，都要用超纯水彻底冲洗。

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三达水处理设备

太阳能光伏纯水处理太阳能EDI纯水处理太阳能硅片纯水处理系统首选粤茂水处理，我公司设计的超纯水设备采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的二级反渗透+EDI+精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质确保处理后出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。

关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

我们公司专业生产二级反渗透+EDI+精混床除盐超纯水设备，有多年的生产经验，尤其在电控系统PLC方面在水处理行业技术都是比较成熟，我们也有做过很多各行业的水处理设备，这方面我们有丰富的经验。我们公司做出来的设备质量比同行具有更大的优势，在国内具有一定的市场竟争力。该产品由于具备性能好、价格低于国外同类产品价格、供货及时、售后服务方便快捷等诸多优势。在LED、LCD、半导体、光电光学企业的脱盐水和超纯水装置，得到了业界的广泛赞誉，欢迎广大客户前来参观考察我公司的厂房及超纯水设备工程案例。

部分案例：

南阳广宇太阳能有限公司10吨/小时二级反渗透+EDI+精混床18M超纯水设备，运营起始日期：2009年4月；

我相信只有您实地考察，看了我们的厂房及工程设备，才会相信我们的实力，我们随时欢迎您的到来。耐心解答您的咨询，咨询我们前，请您告诉我们几个参数：

1.原水水源（自来水，地下水井水，河水，湖水...)，除了自来水，其它的水源，需要提供水质报告，水源不一样，处理工艺不一样，费用就有很大的差别;

2.配置（需要高端配置还是一般配置，就是指水泵有国产的还是进口的，反渗透膜用海德能的还是陶氏的...） 3.控制（用PLC全自动控制,还是手动控制)

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