当前位置:首页 > 2019—2020学年第一学期人教版化学必修一第四章第1节《无机非金属材料的主角 - 硅》同步训练
A. B. C. D.
二、填空题
15.有下列物质①过氧化钠、①氧化铝①①硅①①二氧化硅。 请根据它们的用途填空①(填序号) ①1①可用来制计算机芯片的是_________①
①2①可用于呼吸面具中作为氧气来源的是_________① ①3①能作光导纤维的是_________① ①4①能作耐火材料的是_________①
16.白炭黑(SiO2·H2O)广泛用于橡胶、涂料、印刷等行业,可用蛇纹石[主要成分为Mg6①Si4O10①(OH)8]来制取,其主要工艺流程如下:
①1)蛇纹石用氧化物形式可表示为____________①
①2)碱浸时,为提高其中硅酸盐的浸取率,除采用合适的液固比和循环浸取外,还可采用的方法有①_____________________①①_____________(任举两种)。
①3)过滤1得到的滤液的主要成分是______________________________① ①4)沉淀时加入氯化钠溶液的作用可能是__________________________① ①5)洗涤时,如何证明产品已洗涤干净?_______________________________① 17.硅是重要的半导体材料,构成了现代电子工业的基础。回答下列问题:
(1)基态Si原子中,电子占据的最高能层符号________________ ,该能层具有的原子轨道数为________________、电子数为________________。
(2)硅主要以硅酸盐、________________等化合物的形式存在于地壳中。
(3)单质硅存在与金刚石结构类似的晶体,其中原子与原子之间以________________相结合,其晶胞中共有8个原子,其中在面心位置贡献________________个原子。
(4)单质硅可通过甲硅烷(SiH4) 分解反应来制备。工业上采用Mg2Si和NH4CI在液氨介质中反应制得SiH4,该反应的化学方程式为________________。
(5)碳和硅的有关化学键键能如下所示,简要分析和解释下列有关事实:
硅与碳同族,也有系列氢化物,但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多,原因是___________SiH4的稳定性小于CH4,更易生成氧化物,原因是 ________________。
(6)在硅酸盐中,SiO44+四面体(如下图(a))通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式。图(b)为一种无限长单链结构的多硅酸根;其中Si原子的杂化形式为________________。Si与O的原子数之比为 ________________ 化学式为________.
18.运用所学知识,回答下列问题。
(1)SiO2是玻璃的主要成分之一,SiO2与氢氧化钠溶液反应的化学方程式为_________________,工艺师常用______________(填物质名称)来雕刻玻璃。
(2)向硫酸铜溶液中逐滴加入KI溶液至恰好反应完全,观察到产生白色沉淀CuI,蓝色溶液变为棕色。该反应的离子方程式为____________________;取一定量上述反应后的上层棕色清液于一支试管中,加入一定量的苯,振荡,此时观察到的现象是____________________________。
(3)电子工业常用FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜,制造印刷电路板,工程师欲从制造印刷电路板的工
业废水中回收铜,并获得FeCl3溶液,设计如下方案:
①滤渣的成分为_______________。(填化学式)
①加过量B发生反应的离子方程式为_______________________________。 ①通入C发生反应的化学方程式为_________________________________。
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